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[发明专利]多带电粒子射束描绘装置及其调整方法-CN202210259329.4在审
发明人：七尾翼;松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-03-16 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供能够简便且高精度地进行多射束的像散校正的多带电粒子射束描绘装置及其调整方法。多带电粒子射束描绘装置具备：物镜，调整多射束的焦点位置；像散校正元件，校正多射束的像散；检查孔径，使多射束中的一根通过；偏转器，使多射束偏转，在检查孔径上扫描多射束；电流检测器，检测通过检查孔径后的多射束的各射束的射束电流；射束图像制作部，基于射束电流制作射束图像；特征量计算部，在第一方向上将射束图像的亮度相加而生成第一波形，根据第一波形计算第一特征量，在与第一方向不同的第二方向上将射束图像的亮度相加而生成第二波形，根据第二波形计算第二特征量
带电粒子描绘装置及其调整方法

[发明专利]多射束描绘方法以及多射束描绘装置-CN202110190014.4在审
发明人：松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2021-02-18 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及多射束描绘方法和多射束描绘装置。一个方式的多射束描绘方法基于像素尺寸和射束阵列信息，取得用于使担当射束向试样上的描绘区域被多射束的射束间间距尺寸分割而成的多个射束间间距区域的各射束间间距区域内的多个像素偏转的多个偏转坐标、在为了使多射束的各射束一起追随工作台的移动而进行的各跟踪控制期间中担当射束在各射束间间距区域内进行曝光的像素数、以及在经过跟踪控制期间后进行将跟踪开始位置复位的跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量，制作使用多个偏转坐标、在各跟踪控制期间中进行曝光的像素数以及进行跟踪复位的情况下的多射束的偏转移动量而定义的偏转次序，一边根据偏转次序使多射束偏转一边对试样描绘图案。
多射束描绘方法以及装置

[发明专利]多射束生成和多射束偏转单元的某些改进-CN202180018794.2在审
发明人： Y.萨罗夫;U.比尔;H.弗里茨;D.蔡德勒;G.库里杰;R.伦科;A.G.梅杰;C.里德塞尔 -专利权人：卡尔蔡司MULTISEM有限责任公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：提供了多射束带电粒子显微镜的多射束光栅单元——诸如多射束生成单元、多射束偏转单元——的某些改进。改进包括多射束光栅单元的设计、制造和调整，包括特定形状和尺寸的孔。改进能够以更高的精度生成多射束生成和多射束偏转或消像散。这些改进与多射束带电粒子显微镜的常规应用相关，例如其中需要高可靠性和高再现性以及低机器对机器的偏差的半导体检验和审查中。
多射束生成偏转单元某些改进

[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置-CN202010660659.5有效
发明人：松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。多射束描绘方法具备：形成对基板进行多重描绘的多射束的射束阵列的工序；针对每个所述描绘，对将所述基板上的区域分割而得到的多个子条纹区域的每一个，分配将所述射束阵列分割而得到的所述子射束阵列的工序；针对每个所述子射束阵列，计算应用于子射束阵列内的各射束的照射时间调制率的工序；对于与相互重叠的所述子条纹区域的组分别对应的所述子射束阵列，基于所述子射束阵列内的射束的照射时间调制度，对每个所述子射束阵列计算权重并分配的工序；及将分配给各所述子射束阵列的权重与所述子射束阵列内的各射束的照射时间相乘，描绘各所述子条纹区域，对各所述子条纹区域进行多重描绘的工序。
多射束描绘方法装置

[发明专利]多带电粒子束描绘方法以及多带电粒子束描绘装置-CN202180006990.8在审
发明人：七尾翼;饭塚修 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2021-01-29 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：以多射束高精度地测定标记位置。多带电粒子束描绘方法形成带电粒子束以规定间距配置的多射束(30a～30e)，通过依次切换使上述多射束(30a～30e)中的一部分区域的射束导通的导通射束区域，由此一边使上述带电粒子束的照射位置偏移，一边向设置于规定位置且宽度比上述规定间距宽的标记(M)照射上述导通射束区域的射束，检测来自上述标记(M)的反射带电粒子信号，计算上述标记(M)的位置，基于计算出的上述标记(M)的位置，调整上述多射束的照射位置来描绘图案。
带电粒子束描绘方法以及装置

[发明专利]在多射束柱中减少的库仑相互作用-CN201880009523.9有效
发明人： A·D·布罗迪 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： H01J37/317 文献下载
摘要：可通过减少多射束检验系统的照明路径中的库仑效应来改进多电子束系统的性能。具有多个孔的射束限制孔径可位于电子束源与多透镜阵列之间，例如无场区域中。所述射束限制孔径经配置以减少所述电子束源与所述多透镜阵列之间的库仑相互作用。具有所述射束限制孔径的电子束系统可用于扫描电子显微镜中。
多射束柱中减少库仑相互作用

[发明专利]物镜阵列组件、电子光学系统、电子光学系统阵列、聚焦方法-CN202180076123.1在审
发明人： M·J-J·威兰 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H01J37/12 文献下载
摘要：在一种布置中，物镜阵列组件将子射束的多射束聚焦在样品上。平面元件限定沿着子射束路径对准的多个孔径。物镜阵列将多射束朝向样品投射。平面元件中的一个或多个平面元件的孔径补偿多射束中的离轴像差。
物镜阵列组件电子光学系统聚焦方法

[发明专利]带电粒子多射束列、带电粒子多射束列阵列、检查方法-CN202180048142.3在审
发明人： M·J-J·维兰德 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-06-28 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01J37/075 文献下载
摘要：本公开涉及带电粒子多射束列和多射束列阵列。在一种配置中，限定子射束的孔径阵列根据带电粒子射束形成子射束。准直器阵列使子射束准直。物镜阵列将经准直的子射束投射到样品上。检测器检测从样品发射的带电粒子。检测器设置在限定子射束的孔径阵列的射束下游平面中。
带电粒子多射束列阵列检查方法

[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置-CN202010722441.8在审
发明人：松本裕史;加藤靖雄 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-24 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。实施方式的多射束描绘方法，对在载置于在规定方向上行进的工作台上的基板上定义的每个像素照射所述多射束的各射束来形成图案。该多射束描绘方法，至少根据在所述规定方向上将所述多射束的阵列分割而成的多个子阵列中的每个子阵列的各射束的位置偏移量，取得每个子阵列的图案的位置校正量，计算基于位置校正量将针对每个所述子阵列描绘的所述图案的位置移位所用的、向所述各像素照射的所述各射束的照射量，控制为计算出的所述照射量，使用2个以上的所述子阵列各自的至少一部分进行多重描绘。
多射束描绘方法装置

[发明专利]使用多射束工具的反向散射电子(BSE)成像-CN201680051709.1有效
发明人： M·麦科德;R·西蒙斯;D·马斯纳盖蒂;R·克尼彭迈耶 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-09-21 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明揭示多射束扫描电子显微镜检验系统。多射束扫描电子显微镜检验系统可包含电子源及小射束控制机构。所述小射束控制机构可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束且在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者。所述多射束扫描电子显微镜检验系统还可包含检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像。
使用多射束工具反向散射电子 bse 成像

[发明专利]多源照射装置-CN202080082809.7在审
发明人： S·W·H·K·斯蒂恩布林克;M·J-J·维兰德;A·V·G·曼格努斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01J37/28 文献下载
摘要：本文中公开了一种用于使用带电粒子照射样品的多源照射装置，该装置包括多个源(401)，该多个源各自被布置为发射带电粒子射束；聚光透镜(403)，该聚光透镜被布置为从多个源接收射束；以及操纵器阵列布置(404射束被布置为使得：在聚光透镜的平面处，来自至少一个源的射束与来自多个源中的不同的一个源的另一射束的至少一部分相交。聚光透镜被配置为分开地大致准直从每个源接收的射束。操纵器阵列布置被配置为操纵已经被聚光透镜大致准直的射束，从而以单列的形式生成包括来自多个源的带电粒子的一个或多个射束。操纵器阵列布置包括偏转器阵列(404)和多射束生成器(405)，偏转器阵列被布置为偏转已经被所述聚光透镜大致准直的所述射束，从而生成包括来自多个源的带电粒子的多个大致平行的经大致准直的射束，其中多射束生成器被配置为：接收由偏转器阵列生成的多个大致平行的经大致准直的射束；以及依据所接收的多个大致平行的经大致准直的射束，生成多射束，其中多射束包括多个经大致准直的子射束。
照射装置

[发明专利]调强放射治疗中改善射束剖面强度分布的方法-CN03135901.9无效
发明人：侯氢 -专利权人：四川大学
申请日： 2003-09-25 - 公布日： 2004-09-08 - 主分类号： A61N5/00 文献下载
摘要：本发明公开一种在调强放射治疗中改善射束剖面强度分布的方法。与常规方法不同之处在于：对应于每个射束，不是产生一个射束元矩阵，而是几个射束元矩阵，射束元矩阵之间沿多叶准直器叶片运动方向有一相对位移。射束元尺寸可以较大，因此可以采用粗网格的有限尺寸笔束法计算每个射束元的剂量分布。根据这些射束元矩阵作最优化计算得到每个射束元矩阵的强度分布有较粗的分辨率，但是，由于射束元矩阵之间有相对位移，几个射束元矩阵的强度分布叠加得到的总强度分布则有较高的分辨率，从而可改善剂量分布。由于单个射束元矩阵的射束元尺寸较大，因此降低了生成小尺寸多叶准直器子野的可能性，从而可减少多叶准直器子野数目和照射过程中的不确定因素及照射时间。
放射治疗改善剖面强度分布方法

[发明专利]多射束描绘方法以及多射束描绘装置-CN202010661012.4在审
发明人：松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及多射束描绘方法及多射束描绘装置。本发明的一个方式的多射束描绘方法，进行基于射束偏转的第k次(k为自然数)的追踪控制，以使多射束的各射束统一并追随于工作台的移动，在进行第k次的追踪控制的同时，在各射束分别对应的以射束间间距尺寸包围的矩形的照射区域内，一边进行同时移位，一边进行多次束发射，在第k次的跟踪控制期间经过后，使跟踪位置返回到对第k次的跟踪控制开始的跟踪开始位置进一步附加了射束间间距尺寸的整数倍的偏移后的位置，作为第k+1次的跟踪控制的开始位置
多射束描绘方法以及装置

[发明专利]多射束描绘方法及多射束描绘装置-CN202010721545.7在审
发明人：松本裕史 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2020-07-24 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：实施方式涉及多射束描绘方法以及多射束描绘装置。实施方式的多射束描绘方法具备：取得与多个参数值对应的多个位置偏移数据的工序，该多个参数值是使照射到基板上的多射束的各射束的位置偏移量变化的参数的多个参数值；计算与所述多个位置偏移数据分别对应的多个基准系数数据的工序；使用与所述多个参数值对应的多个基准系数数据，计算与所述基板上的所述多射束的照射位置处的参数值对应的系数数据的工序；使用所述系数数据对所述各射束的每次发射的照射量进行调制的工序；以及向所述基板照射被调制后的所述照射量的多射束的至少一部分的所述各射束而描绘图案的工序
多射束描绘方法装置

[发明专利]多带电粒子束描绘装置-CN202210661233.0在审
发明人：木村骏生;森田博文;东矢高尚;冈泽光弘 -专利权人：纽富来科技股份有限公司
申请日： 2022-06-13 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实施方式提供抑制试样面上的射束位置偏移的多带电粒子束描绘装置。本实施方式的带电粒子束描绘装置为一种多带电粒子束描绘装置，具备：消隐孔径阵列基板，设有多个消隐器，该多个消隐器进行构成多射束的多个带电粒子束各自的消隐偏转；以及第一屏蔽部件，配置于比所述消隐孔径阵列基板靠所述多射束的行进方向的下游侧，具有供所述多射束在内部穿过的圆筒部，由高磁导率材料构成。
带电粒子束描绘装置

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